Rolf Apetz: шукати на сайті Z-Library

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024 Про збір коштів

Найбільша колекція наукових статей у сіті. 70,000,000+ безкоштовних статей.

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024

Z-Library - одна з найбільших онлайн-бібліотек у світі, в якій зберігається більше 17,000,000 книг та 84,837,000 статей. Ми намагаємось зробити літературу доступною кожному. Сьогодні (15 вересня 2024) ми відкриваємо додатковий збір пожертвувань на підтримку та розвиток проекту.

Також БЕЗЛІМТНІ завантаження (протягом 31 дня після завершення пожертвування) доступні для ВСІХ користувачів, які підтримають проект в період збору коштів до 1 жовтня 2024.

Про збір коштів Детальніше

Підтримати

Книги
Статті (11)
Найпопулярніші
Перелік
- Перелік
- Таблиця

1

Transparent Alumina: A Light-Scattering Model

Rolf Apetz, Michel P. B. van Bruggen

Журнал:

Journal of the American Ceramic Society

Рік:

2003

Мова:

english

Файл:

PDF, 811 KB

english, 2003

2

Transparent Sintered Corundum with High Hardness and Strength

Andreas Krell, Paul Blank, Hongwei Ma, Thomas Hutzler, Michel P. B. van Bruggen, Rolf Apetz

Журнал:

Journal of the American Ceramic Society

Рік:

2003

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.00 MB

english, 2003

3

Laser-produced plasma versus laser-assisted discharge plasma: physics and technology of extreme ultraviolet lithography light sources

Schriever, Guido, Semprez, Olivier, Jonkers, Jeroen, Yoshioka, Masaki, Apetz, Rolf

Журнал:

Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS

Рік:

2012

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.74 MB

english, 2012

4

Vertical-cavity surface emitting laser-diodes arrays expanding the range of high-power laser systems and applications

Pruijmboom, Armand, Apetz, Rolf, Conrads, Ralf, Deppe, Carsten, Derra, Guenther, Gronenborn, Stephan, Sophie Kolb, Johanna, Moench, Holger, Ogiewa, Felix, Pekarski, Pavel, Pollmann-Retsch, Jens, Weich

Журнал:

Journal of Laser Applications

Рік:

2016

Мова:

english

Файл:

PDF, 2.83 MB

english, 2016

5

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2003 - Santa Clara, CA (Sunday 23 February 2003)] Emerging Lithographic Technologies VII - Physical properties of the HCT EUV source

Pankert, Joseph, Bergmann, Klaus, Klein, Juergen, Neff, Willi, Rosier, Oliver, Seiwert, Stefan, Smith, Christopher, Probst, Sven, Vaudrevange, Dominik, Siemons, Guido, Apetz, Rolf, Jonkers, Jeroen, Lo

Рік:

2003

Мова:

english

Файл:

PDF, 146 KB

english, 2003

6

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2005 - San Jose, CA (Sunday 27 February 2005)] Emerging Lithographic Technologies IX - Integrating Philips' extreme UV source in the alpha-tools

Pankert, Joseph, Apetz, Rolf, Bergmann, Klaus, Derra, Guenther, Janssen, Maurice, Jonkers, Jeroen, Klein, Jurgen, Kruecken, Thomas, List, Andreas, Loeken, Michael, Metzmacher, Christof, Neff, Willi, P

Рік:

2005

Мова:

english

Файл:

PDF, 294 KB

english, 2005

7

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, California, USA (Sunday 27 February 2011)] Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography II - Tin DPP source collector module (SoCoMo) ready for integration into Beta scanner

Yoshioka, Masaki, La Fontaine, Bruno M., Naulleau, Patrick P., Teramoto, Yusuke, Jonkers, Jeroen, Schürmann, Max C., Apetz, Rolf, Kilian, Volker, Corthout, Marc

Рік:

2011

Мова:

english

Файл:

PDF, 3.18 MB

english, 2011

8

SPIE Proceedings [SPIE SPIE 31st International Symposium on Advanced Lithography - San Jose, CA (Sunday 19 February 2006)] Emerging Lithographic Technologies X - EUV sources for the alpha-tools

Pankert, Joseph, Lercel, Michael J., Apetz, Rolf, Bergmann, Klaus, Damen, Marcel, Derra, Günther, Franken, Oliver, Janssen, Maurice, Jonkers, Jeroen, Klein, Jürgen, Kraus, Helmar, Krücken, Thomas, Lis

Рік:

2006

Мова:

english

Файл:

PDF, 666 KB

english, 2006

9

SPIE Proceedings [SPIE SPIE's 27th Annual International Symposium on Microlithography - Santa Clara, CA (Sunday 3 March 2002)] Emerging Lithographic Technologies VI - Physical properties of the HCT EUV source

Pankert, Joseph, Bergmann, Klaus, Klein, J., Neff, Willi, Rosier, Oliver, Seiwert, Stefan, Smith, Christopher, Apetz, Rolf, Jonkers, Jeroen, Loeken, Michael, Derra, Guenther H., Engelstad, Roxann L.

Рік:

2002

Мова:

english

Файл:

PDF, 76 KB

english, 2002

10

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2004 - Santa Clara, CA (Sunday 22 February 2004)] Emerging Lithographic Technologies VIII - Status of Philips' extreme UV source

Pankert, Joseph, Mackay, R. Scott, Bergmann, Klaus, Klein, Juergen, Neff, Willi, Rosier, Oliver, Seiwert, Stefan, Smith, Christopher, Probst, Sven, Vaudrevange, Dominik, Siemons, Guido, Apetz, Rolf, J

Рік:

2004

Мова:

english

Файл:

PDF, 374 KB

english, 2004

11

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, California, USA (Sunday 24 February 2008)] Emerging Lithographic Technologies XII - Sn DPP source-collector modules: status of alpha resources, beta developments, and the scalability to HVM

Corthout, Marc, Schellenberg, Frank M., Apetz, Rolf, Brudermann, Jesko, Damen, Marcel, Derra, Günther, Franken, Oliver, Jonkers, Jeroen, Klein, Jürgen, Küpper, Felix, Mader, Arnaud, Neff, Willi, Scheu

Рік:

2008

Мова:

english

Файл:

PDF, 2.08 MB

english, 2008